納米表面輪廓儀

IMOS納米表面輪廓儀實現(xiàn)了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征，在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達200萬個數(shù)據(jù)點。選擇正確的光學輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應用程序的要求，包括速度、精度、垂直范圍、自動化和靈活性。

IMOS光學表面輪廓儀在非接觸式光學表面輪廓方面提供了強大的通用性。有了該系統(tǒng)，它可以方便快捷地測量各種表面類型，包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯。所有的測量都是無損的，快速的，不需要特殊的樣品準備。納米表面輪廓儀系統(tǒng)的核心是部分相干光干涉技術，它提供亞納米精度測量更廣泛的表面比其他商業(yè)可用技術。

IMOS 納米表面輪廓儀提供了不同的應用程序的特殊價值，如平直，粗糙度，波浪形，臺階高度等等。
IMOS 納米表面輪廓儀配備了一個頭，可以填充離散變焦光學定制的系統(tǒng)。樣本分段配置范圍從自動化到自動化的編碼行程。

IMOS 納米表面輪廓儀提供高精度測量，易于使用，快速測量，及吸引力的價格，使其成為多功能3D光學輪廓儀的理想選擇。

主要優(yōu)點:

• 納米模式下的Z軸分辨率:

         ~ 30pm微起伏模式(使用原子級光滑鏡)

             ~ 0.3um微地貌模式下

• 外形緊湊;

• 快速響應;

• 抗外部振動;

• 測量過程自動化程度高;

• 特殊的用戶友好的界面;

• 高質量的圖形界面，以工作與多計劃三維表示的測量結果;

• 廣泛的可能性配置的顯微鏡，以各種形態(tài)-邏輯的測量表面;

• 能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;

• 的存儲系統(tǒng)和測量結果的系統(tǒng)化。

在硅基板上的Pd薄膜，高度100nm硅晶體表面的階地，高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜，高度100nm

微起伏模式下的測量結果	IMOS納米表面輪廓儀組成
	光電探測器* 矩形-1392*1040 px
	光源 *  LED (λeff = 630 nm)
	顯微物鏡* 20x (or 10x, 5x) 2 items 放大率不變
	掃描
	位移臺 1d (Z) range 50 mm  2d (XY) range 75x50 mm
	控制器 CCD-相機抓幀器 位移臺控制器 設備控制器
硅晶體表面的階地，高度為0.314nm
	計算機
	軟件 Software for working with IMOS System / MS Windows
認證口徑，標稱高度值為101nm±3%	* – 按客戶需求

微地貌模式下的測量結果	技術指標
	測量區(qū)域  0,4x0,3 mm2 (for 20X)
	像素尺寸  0,3 μm (for 20X)
	橫向分辨率 Not worse 1 μm
	測量模式  微地貌模式 微起伏模式
認證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm
	Z軸分辨率 微地貌模式 ~ 0,3 μm 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror)
	測量范圍  微地貌模式 up to 50 mm 微起伏模式 up to 20 μm
	測量速度  微地貌模式 ~ 4 μm/s 微起伏模式 ~ 20 μm/10s
衍射元件, 厚 3,7 μm